半導体、液晶パネル製造時のCVDチャンバーでのプロセス後に生成した反応生成物をエッチングレートの高いガスの化学反応で除去するために使われるガス。クリーニングガスの導入により作業が自動化され、省人化・スループットの向上が図られた。主なクリーニングガスには、NF₃、CLF₃などがある。